目前，除對少數產品制定國家標準外（如高純硼酸、高chun冰乙酸、高純氫氟酸等），大部分高純試劑的質量標準還很不統一，在名稱上有高純、特純（Extra Pure）、超純、光譜純等不同叫法。

根據高純試劑工業專用范圍的不同，可將其分為以下幾種：

（1）光學與電子學專用高純化學品，即電子級試劑（EIectronicgrade）試劑。

（2）金屬-氧化物-半導體（Metal-Oxide-Semiconductor）電子工業專用高純化學品，即UP-S級或MOS試劑（讀作：摩斯試劑）。一般用于半導體，電子管等方面，其雜質最高含量為0.01-10ppm，有的可降低到ppb數量級，金屬雜質含量小于1ppb，塵埃等級達到0-2ppb，適合0.35～0.8微米集成電路加工工藝。

（3）單晶生產用高純化學品。

（4）光導纖維用高純化學品。

（5）等離子體質譜純級試劑（ICP-Mass Pure Grade）：絕大多數雜質元素含量低于0.1ppb，適合等離子體質譜儀（ICP Mass）日常分析工作。

（6）等離子體發射光譜純級試劑（ICP Pure Grade）：絕大多數雜質元素含量低于1ppb ，適合等離子體發射光譜儀（ICP）日常分析工作。

（7）原子吸收光譜純級試劑（AA Pure Grade）絕大多數雜質元素含量低于10 ppb ，適合原子吸收光譜儀（AA）日常分析工作。

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